形成薄膜的初期一般认为有三类，即岛状生长，层状生长及层状-岛状生长。其形态及过程受基板表面的性质，温度及蒸镀速度等因素的影响。其中与基板表面的清洁度关系很大。玻璃瓶生产厂家由于知道蒸镀原子或分子与基板原子间作用强弱有关，若这时玻璃瓶厂把蒸镀原子之间互相作用力强时形成岛状生长，若时测为层状生长。
       蒸镀的设备，除了蒸镀用真空罐外，还需要真空排气系统，我们徐州玻璃瓶厂一般的蒸镀需10-3-10-4pa的真空度，蒸镀半导体膜时需10-6-10-8pa的超真空度。应对应选择适应的真空度要求及排气量的真空泵及附属设备，这时玻璃瓶厂若选用扩散泵应注意油倒流造成的基板污染。玻璃瓶厂的蒸镀中对应蒸发物质及量的不同，所使用蒸发源种类形式也不同，所需温度可以依据平衡蒸汽压所对应温度加以选择，徐州玻璃瓶厂用蒸发源加热方式可以采用通电加热，电子抢冲击，激光照射等加热方式。
       对基板的加热可以使表面洁净化，引起外诞生长及化合物反应，因而应对基板加热。徐州玻璃瓶厂通常对基板的加热采用基板背面设加热器或加热用灯，但基板温度难以测试，虽设热电偶但反应出的却却未必是基板表面的温度。